処理液供給装置

Treating liquid feeder

Abstract

(57)【要約】 【課題】 測定した遅れ時間に基づいて処理液の供給/ 停止タイミングを補正することにより、所望する処理プ ログラムによる処理を正確に実施することができる。 【解決手段】 供給開始命令を、予め計測された開始遅 れ時間T DS だけ早めて実供給開始命令としてT S の時点 で実行し、供給停止命令を、予め計測された停止遅れ時 間T DE だけ早めて実供給停止命令としてT E の時点で実 行する。これにより、処理液供給ノズルから供給された フォトレジスト液は、処理プログラムの供給開始命令が 実行されるはずであった時点t S において吐出され、供 給停止命令が実行されるはずであった時点t E において 吐出を停止される。
PROBLEM TO BE SOLVED: To carry out a treatment property according to a required program by a method wherein a processing liquid feeder is corrected on feed/stop timing based on a measured delay time. SOLUTION: A feed start instruction is quickened by a previously measured start delay time TDS and executed as an actual feed start instruction at a point of time TS, and a feed stop instruction is quickened by a previously measured start stop time TDE and executed as an actual feed stop instruction at a point of time TE. By this setup, photoresist liquid fed from a processing liquid nozzle is discharged out at a point of time tS when the feed starting instruction of a processing program is expected to be executed and stopped at a point of time tE when a feed stop instruction is expected to be executed.

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    JP-2007150064-AJune 14, 2007Tokyo Electron Ltd, 東京エレクトロン株式会社Rinse processing method, developing processor, and controlling program
    JP-2011062659-AMarch 31, 2011Ulvac Japan Ltd, 株式会社アルバック静電型吐出装置
    JP-2014074902-AApril 24, 2014Hoya Corp, Hoya株式会社マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法
    JP-4494332-B2June 30, 2010東京エレクトロン株式会社リンス処理方法、現像処理装置、および制御プログラム